真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质，使之升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜，或加热蒸发镀膜材料的真空镀膜方法，属于物理气相沉积法的一种，可以制备优质的PVD涂层。真空蒸发镀膜要求淀积涂层的空间要有一定的真空度，保持足够的真空环境，是镀膜的必要条件。各种真空系统种类繁多，因此真空蒸发镀膜也有不同的工艺流程和实现方式。下面，小编为大家分享一下真空蒸发镀膜主方法有哪几种吧。
一、电阻蒸发源蒸镀法
采用钽、钼、钨等高熔点金属，做成适当形状的蒸发源，其上装入待蒸发材料，让气流通过，对蒸发材料进行直接加热蒸发，或者把待蒸发材料放入氧化铝，氧化铍等坩锅中进行间接加热蒸发，这就是电阻加热蒸发法。
利用电阻加热器加热蒸发的镀膜机结构简单，造价便宜，使用可靠，可用于熔点不太高的材料的蒸发镀膜，尤其适用于对镀膜质量要求不太高的大批量的生产中。不过，电阻加热的缺点是加热所能达到的上限温度有限，加热器的寿命也比较短。
二、电子束蒸发源蒸镀法
将蒸发材料放入水冷钢坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点涂层材料和高纯涂层材料。
电子束蒸发源蒸镀的优点有电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度；热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热效率高，热传导和热辐射的损失少。
三、高频感应蒸发源蒸镀法
高频感应蒸发源是将装有蒸发材料的石墨或陶瓷坩锅放在水冷的高频螺旋线圈中间，使蒸发材料在高频带内磁场的感应下产生强大的涡流损失和磁滞损失(对铁磁体)，致使蒸发材料升温，直至气化蒸发。膜材的体积越小，感应的频率就越高。
高频感应蒸发源蒸镀的优点有蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右；蒸发源的温度均匀稳定，不易产生飞溅现象；蒸发源一次装料，无需送料机构，温度控制比较容易，操作比较简单。缺点是蒸发装置必须屏蔽，并需要较复杂和昂贵的高频发生器；对设备质量要求高。
四、激光束蒸发源蒸镀法
采用激光束蒸发源的蒸镀技术是一种理想的涂层制备方法。这是由于激光器可能安装在真空室之外，这样不但简化了真空室内部的空间布置，减少了加热源的放气，而且还可以避免蒸发器对被镀材料的污染，达到了涂层纯洁的目的。此外，激光加热可以达到极高的温度，利用激光束加热能够对某些合金或化合物进行“闪光蒸发”。这对于保证涂层的成分，防止涂层的分馏或分解也是及其有用的。但是，由于制作大功率连续式激光器的成本较高，所以它的应用范围有一定的限制，目前尚不能在工业中广泛应用。
关于真空蒸发镀膜方法有哪几种相关介绍如上所述，以上四种真空蒸发镀膜方法各有特点，也各有利弊，在实际生产时，要根据自身需求和制备方法的优缺点来选择合适的蒸镀工艺。
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