所谓靶材，是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单来说，就是高速荷能粒子轰击的目标材料。依据材质可分为金属靶材、合金靶材以及陶瓷靶材，其中钛靶材是制备PVD涂层常用的靶材之一，在磁控溅射技术中有广泛应用。因此，钛靶材的质量很重要，好的钛靶材才能制备合格的PVD涂层。下面，小编为大家分享一下影响钛靶材质量因素有哪些吧。
一、纯度
钛靶材的纯度对溅射涂层的性能影响很大。钛靶材的纯度越高，溅射钛薄膜的中的杂质元素粒子越少，导致PVD涂层性能越好，包括耐蚀性及电学、光学性能越好。不过在实际应用中，不同用途的钛靶材对纯度要求不一样。靶材作为溅射中的阴极源，材料中的杂质元素和气孔夹杂是沉积薄膜的主要污染源。气孔夹杂会在铸锭无损探伤的过程中基本去除，没有去除的气孔夹杂在溅射的过程中会产生放电现象，进而影响薄膜的质量；而杂质元素含量只能在全元素分析测试结果中体现，杂质总含量越低，钛靶材纯度就越高。
二、平均晶粒尺寸
通常钛靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级，细小尺寸晶粒靶的溅射速率要比粗晶粒靶快，在溅射面晶粒尺寸相差较小的靶，溅射沉积薄膜的厚度分布也较均匀。研究发现，若将钛靶的晶粒尺寸控制在100μm以下，且晶粒大小的变化保持在20%以内，其溅射所得薄膜的质量可得到大幅度改善。
三、结晶取向
金属钛是密排六方结构，由于在溅射时钛靶材原子容易沿着原子六方紧密排列方向优先溅射出来，因此，为达到较高的溅射速率，可通过改变靶材结晶结构的方法来增加溅射速率。钛靶材的结晶方向对对溅射膜层的厚度均匀性影响也较大。
PVD涂层
四、结构均匀性
结构均匀性也是考察靶材质量的重要指标之一。对于钛靶材不仅要求在靶材的溅射平面，而且在溅射面的法向方向成分、晶粒取向和平均晶粒度均匀性。只有这样钛靶材在使用寿命内，在同一时间内能够得到厚度均匀、质量可靠的、晶粒大小一致的钛薄膜。
五、几何形状与尺寸
主要体现在加工精度和加工质量方面，如加工尺寸、表面平整度、粗糙度等。如安装孔角度偏差过大，无法正确安装；厚度尺寸偏小会影响靶材的使用寿命；密封面和密封槽尺寸过于粗糙会导致靶材安装后真空出现问题，严重的导致漏水；靶材溅射面粗糙化处理可使靶材表面布满丰富的凸起尖|端，在尖|端效应的作用下，这些凸起尖|端的电势将大大提高，从而击穿介质放电，但是过大的凸起对于溅射的质量和稳定性是不利的。
影响钛靶材质量因素有哪些就是上述五点，在应用钛靶材时要特别关注，尽可能提升钛靶材的应用质量，从而制备出优质的PVD涂层。材料科技提供高纯钛靶材及靶材绑定服务，欢迎有需要的客户致电咨询。
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